IKBENSTIL BLOG | De nieuwe TNO faciliteit EBL2 – Fanless Cleanroom Computer
2089
post-template-default,single,single-post,postid-2089,single-format-standard,ajax_leftright,page_not_loaded,

BLOG

 

De nieuwe TNO faciliteit EBL2 – Fanless Cleanroom Computer

PARTNERSCHAP TUSSEN TNO EN USHIO VOOR ONTWIKKELING VAN DE NIEUWSTE GENERATIE LITHOGRAFISCHE COMPONENTEN

TNO en USHIO bouwen samen in Delft een nieuwe experimentele belichtings- en analyse faciliteit om door EUV-straling veroorzaakte effecten op EUV-optica en dradenkruizen experimenteel te kunnen onderzoeken.
De nieuwe faciliteit gaat EBL2 heten en heeft als gemeenschappelijk doel inzicht te krijgen in de contaminatie-effecten op oppervlakken bij extreme uv-straling en onder realistische omstandigheden zoals die worden voorzien in de roadmap voor nanolithografische systemen.

Hiermee kunnen TNO en USHIO de ontwikkeling van systemen, maskers en membranen (‘pellicles’) versnellen. De EUV-bron van USHIO zal gepulseerd EUV aanbieden in een goed gecontroleerde omgeving die dezelfde omstandigheden biedt als lithografische systemen. Het transport en het hanteren van de monsters wordt geautomatiseerd en de mate van extreme reinheid zal voldoen aan de meest actuele normen voor de productie van halfgeleiders met EUV.

De wedloop om steeds kleinere verbindingen tussen chips blijft zich ontwikkelen. Dit vraagt om een grondig inzicht in, en een correcte toepassing van, de fysica en chemie van de interactie tussen materialen en fotonen. Het partnerschap tussen USHIO en TNO en de gezamenlijke unieke, state-of-the-art onderzoeksfaciliteit is bedoeld om het gedrag van componenten en materialen voor de verwerking van halfgeleiders onder EUV-licht te karakteriseren en te analyseren.

Ikbenstil Computers heeft een kleine rol in deze nieuwe ontwikkeling en dat is dat deze cleanroom faciliteit aangestuurd wordt van uit een aantal van onze Fanless Rackmount Computers.

TNO_EBL2a

MEER INFO KLIK HIER

TAGS > , , , ,